Dünnschichtcharakterisierung: Optische und Röntgenanalyse

Das Verständnis der inneren Struktur und chemischen Zusammensetzung von Materialien ist der Grundstein der modernen Halbleitertechnik.Dieser Kurs führt die wesentlichen Methoden ein, die zur Inspektion von Dünnschichten verwendet werden, ohne sie zu beschädigen, um qualitativ hochwertige Fertigungs- und Forschungsergebnisse zu gewährleisten. Sie erfahren, wie optische und Röntgensignale zur Bestimmung von Schichtdicke, Kristallstruktur und Materialreinheit eingesetzt werden. Was Sie lernen werden: - Verstehen Sie die grundlegende Physik von Licht- und Röntgenwechselwirkungen mit fester Materie - Erfahren Sie, wie Ellipsometrie und Reflektometrie zur Messung der Dünnschichtdicke verwendet werden - Anwenden von Röntgenbeugungstechniken zur Analyse der kristallinen Qualität und der Gitterparameter - Grundlagen der Zusammensetzungsanalyse zur Identifizierung von Materialverunreinigungen beherrschen - Erkunden Sie moderne automatisierte Charakterisierungsworkflows und datengesteuerte Analysetechniken - Üben Sie die Interpretation von Charakterisierungsdaten für reale Halbleiterherstellungsszenarien Der Kurs beginnt mit einer Einführung in die Schlüsselterminologie und Wellenphysik, bevor Sie durch spezifische Charakterisierungsmethoden geführt werden, die heute in der Industrie verwendet werden.Dieses textbasierte Programm ist für Anfänger in Ingenieurwissenschaften, Physik oder Materialwissenschaften konzipiert, für die keine Vorerfahrung in der Charakterisierung erforderlich ist. Beginnen Sie noch heute Ihre Reise in die präzise Welt der Materialanalyse.